11月15日消息,渲消失根據(jù)博主爆料的染圖消息,明年的出爐iPhone 18 Pro系列將首次縮小靈動島面積,2027年亮相的挖孔20周年iPhone將會把Face ID和前攝全部置于屏幕下方,實(shí)現(xiàn)真面屏形態(tài)。漸漸
有博主基于爆料信息繪制了iPhone 18 Pro和20周年iPhone的渲消失渲染圖,在這兩代iPhone上,染圖正面的出爐挖孔區(qū)域漸漸消失。
目前安卓陣營已經(jīng)推出了屏下前攝機(jī)型,挖孔代表品牌是漸漸努比亞,最新的渲消失紅魔11 Pro系列以及努比亞Z80 Ultra都是真全面屏旗艦。以努比亞Z80 Ultra為例,染圖該機(jī)采用納米級高透材料、出爐獨(dú)立像素驅(qū)動技術(shù),挖孔顯著提升屏下攝像透光率,漸漸最終實(shí)現(xiàn)屏下鏡頭全場景完美隱藏效果。
相比努比亞,蘋果要想要實(shí)現(xiàn)真全面屏設(shè)計,不僅要做屏下前攝,還要將Face ID組件置于屏幕下方,既不影響顯示效果又兼顧生物識別。
在此之前,有關(guān)蘋果屏下Face ID的多項(xiàng)專利被曝光,蘋果的新專利通過創(chuàng)新設(shè)計,移除部分子像素,使紅外光能夠更順暢地穿過屏幕蓋板,從而實(shí)現(xiàn)高效的屏下人臉識別。


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